蓝宝石晶片减薄,LED灯里的人造蓝宝石有什么作用

发布时间:2024-04-10 08:07:25

导读:蓝宝石的硬度非常高,在自然材料中其硬度仅次于金刚石,但是在LED器件的制作过程中却需要对它进行减薄和切割(从400μm减到100μm左右)...下面是蓝宝石晶片减薄,LED灯里的人造蓝宝石有什么作用的详细诠释。

蓝宝石晶片减薄,LED灯里的人造蓝宝石有什么作用

LED灯里的人造蓝宝石有什么作用

展开全部 通常,GaN基材料和器件的外延层主要生长在蓝宝石衬底上。蓝宝石衬底有许多的优点: 首先,蓝宝石衬底的生产技术成熟、器件质量较好; 其次,蓝宝石的稳定性很好,能够运用在高温生长过程中; 最后,蓝宝石的机械强度高,易于处理和清洗。因此,大多数工艺一般都以蓝宝石作为衬底。使用蓝宝石作为衬底也存在一些问题,例如晶格失配和热应力失配,这会在外延层中产生大量缺陷,同时给后续的器件加工工艺造成困难。蓝宝石是一种绝缘体,常温下的电阻率大于1011Ω·c m,在这种情况下无法制作垂直结构的器件;通常只在外延层上表面制作n型和p型电极(如图1所示)。在上表面制作两个电极,造成了有效发光面积减少,同时增加了器件制造中的光刻和刻蚀工艺过程,结果使材料利用率降低、成本增加。由于P型GaN掺杂困难,当前普遍采用在p型GaN上制备金属透明电极的方法,使电流扩散,以达到均匀发光的目的。但是金属透明电极一般要吸收约30%~40%的光,同时GaN基材料的化学性能稳定、机械强度较高,不容易对其进行刻蚀,因此在刻蚀过程中需要较好的设备,这将会增加生产成本。蓝宝石的硬度非常高,在自然材料中其硬度仅次于金刚石,但是在LED器件的制作过程中却需要对它进行减薄和切割(从400μm减到100μm左右)。添置完成减薄和切割工艺的设备又要增加一笔较大的投资。蓝宝石的导热性能不是很好(在100℃约为25W/(m·K))。因此在使用LED器件时,会传导出大量的热量;特别是对面积较大的大功率器件,导热性能是一个非常重要的考虑因素。为了克服以上困难,很多人试图将GaN光电器件直接生长在硅衬底上,从而改善导热和导电性能。 生长GaN的时候作为衬底 再看看别人怎么说的。 展开全部 生长GaN的时候作为衬底

LED用蓝宝石晶片有什么用

LED制作过程程分为两大部分。首先在衬低上制作氮化镓(GaN)基的外延片,这个过程主要是在金属有机化学气相沉积外延炉中完成的。准备好制作GaN基外延片所需的材料源和各种高纯的气体之后,按照工艺的要求就可以逐步把外延片做好。常用的衬底主要有蓝宝石、碳化硅和硅衬底,还有GaA s、Al N、ZnO等材料。MOCVD是利用气相反应物(前驱物)及Ⅲ族的有机金属和Ⅴ族的NH3在衬底表面进行反应,将所需的产物沉积在衬底表面。通过控制温度、压力、反应物浓度和种类比例,从而控制镀膜成分、晶相等品质。MOCVD外延炉是制作LED外延片最常用的设备。接下来是对LEDPN结的两个电极进行加工,电极加工也是制作LED芯片的关键工序,包括清洗、蒸镀、黄光、化学蚀刻、熔合、研磨;然后对LED毛片进行划片、测试和分选,就可以得到所需的LED芯片。如果晶片清洗不够干净,蒸镀系统不正常,会导致蒸镀出来的金属层(指蚀刻后的电极)会有脱落,金属层外观变色,金泡等异常。蒸镀过程中有时需用弹簧夹固定晶片,因此会产生夹痕(在目检必须挑除)。黄光作业内容包括烘烤、上光阻、照相曝光、显影等,若显影不完全及光罩有破洞会有发光区残多出金属。晶片在前段制程中,各项制程如清洗、蒸镀、黄光、化学蚀刻、熔合、研磨等作业都必须使用镊子及花篮、载具等,因此会有晶粒电极刮伤情形发生。

蓝宝石显卡怎么也缩水?

在GDDR5的规格下 频率按照内存DDR3的标准是一样的 也就是1000的单项频率X4就等同于4000频率 而显示1000完全是正常的 如果是在GPU-z里面显示1000没错的 蓝宝石显卡很好,a卡是amd基于平台的像hd3850,n卡是基于inter平台的像9600gt 推荐答案说的蛮清楚了。差不多就是这个意思。用GPU-Z测试下看看就知道了

蓝宝石是什么材料?在半导体技术中

重要的技术晶体材料 蓝宝石的化学成分为三氧化二铝(Al2O3)。属三方晶系。晶体形态常呈筒状、短柱状、板状等,几何体多为粒状或致密块状。透明至半透明,玻璃光泽。折光率1.76-1.7 7,双折射率0.00 8,二色性强。非均质体。有时具有特殊的光学效应-星光效应。硬度为 9,密度3.95-4.1克/立方厘米。 各家厂商生长的蓝宝石都有一定的区别.在集成电路用途嘛,了解的比较少, 目前用在LED衬底和光学窗口以及耐磨场合的为主. 不明白啊==!

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